「大脳皮質の発生」の版間の差分

大脳皮質の発生過程では、神経細胞は誕生した部位からダイナミックな細胞移動を経て最終配置部位に到達し(1)、例えば新皮質においては６層構造が形成される。大脳皮質を構成する神経細胞は興奮性神経細胞と抑制性神経細胞に大別され、前者は主に終脳背側部の外套（広義の大脳皮質）と呼ばれる部位の脳室面にある脳室帯及び脳室下帯から産生され、後者は主に終脳腹側部の基底核原基と呼ばれる部位の脳室面から産生される。

大脳皮質の発生の初期には、脳室に面した脳室帯に存在する神経上皮細胞が対称性分裂によって自己複製する。やがて神経上皮細胞は、対称性分裂による自己増殖と非対称性分裂による神経細胞産生の両方を行うようになる。すなわち神経上皮細胞は神経幹細胞であり、脳壁が厚くなる発生中期以降には、脳表面側に至る長い突起を有し放射状グリアと呼ばれるようになる(2)。放射状グリアの非対称性分裂では娘細胞の一方は神経幹細胞として脳室帯に留まり、もう一方の細胞は分裂を停止して神経細胞に分化するか、神経細胞に運命決定された２次的な増殖細胞（basal progenitorまたはintermediate progenitorと呼ばれる）となって脳室下帯（下記）へと移動する。最初期に産生された神経細胞群は、脳表面（脳膜）直下にプレプレートと呼ばれる構造を作るが、このプレプレートを構成する神経細胞のうち少なくともカハールレチウス細胞と呼ばれる細胞群は、直下の脳室帯ではなく皮質外で産生され、脳表面に平行に移動して進入してくる。この時期より後に誕生した神経細胞はプレプレートの間に割って入り、プレプレートを脳表面側の辺縁帯と深層のサブプレートとに分割する。その後、この両者の間で、新たに誕生した神経細胞が早生まれ神経細胞を追い越して辺縁帯直下で移動を終えることを繰り返すことにより、誕生時期の遅い細胞ほど表層近くに局在するというinside-outパターンで皮質板が形成される。辺縁帯とサブプレートの神経細胞は、脳が成熟後は消失するとされており、辺縁帯が将来の第I層、皮質板が将来のII〜VI層になる。